HYPREZ研磨盘是为了针对Engis自行开发的一系列研磨耗材（钻石研磨液、研磨膏、抛光液）而配方生产的，能充份发挥HYPREZ研磨耗材的最佳能效。HYPREZ研磨盘有不同配方物料可供选择，适合不同物料及工艺的应用。
HYPREZ研磨盘备有不同规格，由8英寸到48英寸可供选择。并可按用户要求而订制其他规格。
盘面深槽方面，有平面、小方面、螺旋槽、同心圆槽、放射槽，以适合不同研磨/抛光工艺，也可按用户要求而订制指定的槽面。
| HYPREZ HY Lron |
| 合成铁盘（粗磨） |
◆针对快速粗磨而配方生产
◆配合粗粒钻石研磨液使用
◆特硬盘面，可取代铸铁盘
◆特长使用寿命 |
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| HYPREZ X-12 |
| 合成铁盘（快速研磨专用） |
◆适合快速研磨要求
◆盘面比HY Lron软，易于修面
◆提供优良研磨平面度及平整度
适合于金属及陶瓷物料使用 |
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| HYPREZ Ceramic |
| 合成陶瓷盘（中度研磨专用） |
◆用于陶瓷元件及金属物料的中度研磨
◆特别适用于易锈件的研磨及特定物料的防金属污染要求
◆盘面比纯陶瓷盘略软，提供超长工作寿命
◆应用弹性大，可作粗磨以至精磨工作 |
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| HYPREZ HY Copper |
| 合成铁盘（中度研磨专用） |
◆最广泛使用的研磨盘
◆适用不同物料的中度研磨
◆提供非常精细的表面完成度
◆可作粗精合一的研磨工序应用 |
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| HYPREZ TX-10A |
| 合成锡盘（精磨专用） |
◆适合于高精试研磨要求
◆配合细至极细粒钻石研磨液，能满足最高表面粗糙要求
◆也可配合较大粒钻石研磨液作中度研磨工作 |
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| HYPREZ Tin-Antimony |
| 锡锑混合盘（超高精试抛光工艺专用） |
◆针对磁头工业而配方之抛光盘
◆提供超高精度的抛光质量
◆不会因抛光时产生的热量而变形
◆也可使用于复合材料（如SiC，GaN等）的抛光工艺 |
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在工件的抛光工序上，抛光布的使用是非常重要。针对不同产品的最终表面要求，应选择适当的抛光布配合不同配方的化学抛光液以进行此最后工序。
Engis提供的抛光布主要分为三大类：毛织布、短纤维布及压缩布。均对广泛物料的抛光提供极佳的加工效果。
Engis所有的抛光布均为三层式结构，底层为自动黏贴层，中间是塑胶防滑层，面层是抛光布料，而中层的塑胶防滑层除了可以防滑外，更具防止磨料过度损耗作用。